化鍍/無電鍍 (Chemical/Electro-less Plating)

化鍍/無電鍍 化鍍/無電鍍 (Chemical/Electro-less Plating),利用氧化還原反應,使反應槽內化學鍍液中的金屬離子,還原成金屬沈積在晶圓表面上。

ProPowertek宜錦能為您做什麼?

ProPowertek宜錦提供的化鍍/無電鍍 (Chemical/Electro-less Plating),可提供客戶在鋁墊上製備金屬層,如鎳鈀金(ENEPIG)或鎳金 (ENIG),無需再使用黃光蝕刻定義焊墊圖形。

化鍍製程 (Electro-less Plating) 流程

客戶的晶圓在完成入站檢驗後 ( IQC ),按照客戶指示之種類及厚度,進入化鍍機沈積金屬。首先,藉由化鍍機內事先定義好的程式,自動進行去油清潔後 ( Degreasing ),對鋁墊 ( Al Pad ) 表面進行微蝕刻 ( Etching );接著,進入兩次的鋅活化程序 ( Zincation*2 ):第一次鋅活化後,進行鋅微蝕刻,再進行第二次鋅活化;最後,進行化鍍鎳鈀金的程序 ( Ni / Pd / Au ) 後,並出站檢驗 ( OQC )。

化鍍製程 (Electro-less Plating) 流程

ProPowertek宜錦服務優勢

  • 除了可提供化鍍鎳金需求 (ENIG) 外,更可依客戶需求提供化鍍鎳鈀金 (ENEPIG) 需求。
  • 二次鋅活化,確保表面粗糙度可符合成長要求
  • 為客戶客製化打造前處理程序,使客戶在各種前段代工廠條件變化下,仍然可以得到良好之化鍍品質。
  • 無須使用黃光 / 蝕刻 / 濺鍍,可大幅降低生產時間。
  • 台灣區內唯一一家整合性提供化鍍加BGBM製程的工程服務公司。
  • 工程師團隊背景多元化,有來自前段晶圓代工廠、晶圓薄化專家、後段封裝廠,熟悉前中後段之製程整合及分析,能協助客戶快速開發、解決問題、穩定量產。

 

案例分享

化鍍沉積

化鍍沉積

在鋁墊上以化鍍沈積鎳鈀金 (ENEPIG),鋁墊 (Al Pad) 表面無大量損耗

應用範圍

  • 現有金屬組合:鎳鈀金 Ni/Pd/Au (ENEPIG)及鎳金 Ni/Au (ENIG),可依客戶需求進行厚度調整。
  • 適用八吋/六吋晶圓。
  • 適用Al、AlCu、 AlSiCu、AlSi Pad 。

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